一、物理气相沉积（PVD）镀膜机
1.工作原理
在真空环境下，通过加热或离子轰击等方式使镀膜材料蒸发或溅射，形成气态原子或离子，然后这些气态粒子在工件表面沉积并凝结成薄膜。具体来说，蒸发镀膜是利用高温热源使镀膜材料蒸发，气态原子在工件表面冷凝形成薄膜；溅射镀膜则是利用高能离子束轰击镀膜材料靶材，使靶材原子溅射出来，沉积在工件表面形成薄膜。
2.结构
真空系统：由真空泵、真空腔室等组成，用于创造并维持镀膜所需的高真空环境，以确保气态镀膜材料能够在无干扰的情况下到达工件表面并沉积。
蒸发或溅射源：根据不同的镀膜方法，配备相应的蒸发源（如电阻加热蒸发源、电子束蒸发源等）或溅射源（如磁控溅射靶等），用于产生气态的镀膜材料。
工件架：用于放置待镀膜的工件，通常可以旋转或摆动，以保证镀膜的均匀性。
监控系统：包括薄膜厚度监控仪等，用于实时监测镀膜的厚度和质量，以便精确控制镀膜过程。
二、化学气相沉积（CVD）镀膜机
1.工作原理
利用气态的化学物质在高温、等离子体等条件下发生化学反应，生成固态的薄膜物质，并沉积在工件表面。例如，通过将含有镀膜元素的气体和反应气体通入反应腔室，在加热或其他激励条件下，气体发生化学反应，形成所需的薄膜材料并在工件表面沉积。
2.结构
反应腔室：是化学反应发生的场所，通常由耐高温、耐腐蚀的材料制成，内部设有加热装置，可精确控制反应温度。
气体供应系统：包括各种气体的储存罐、流量计、阀门等，用于精确控制通入反应腔室的气体种类、流量和比例。
尾气处理系统：用于处理反应过程中产生的有害气体，以保护环境和操作人员的安全。
工件承载装置：用于放置工件，确保工件在反应过程中能够均匀地接受气体的作用，以获得均匀的镀膜。
控制系统：用于控制反应的温度、气体流量、反应时间等参数，以保证镀膜过程的稳定性和重复性。
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