2025年光刻胶十大品牌>>

光刻胶是一种特殊的聚合物材料，主要用于光电信息产业的微细图形线路加工制作，对于现代电子行业的发展具有重要的意义。光刻胶的特性对于半导体器件的性能和质量有着至关重要的影响。那么光刻胶的性能指标包括哪些？光刻胶的主要技术参数有哪些？下面来了解下。

作者：转载 2025-05-25

光刻胶是什么东西？光刻胶是一种对光敏感的混合液体，属于半导体八大核心材料之一，具有光化学敏感性，在光线照射下会发生变化，是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，主要应用于电子工业和印刷工业领域。光刻胶的作用是什么？下面来了解下。

作者：转载 2025-04-13

光刻胶和半导体、芯片之间有密切的关联，在半导体制造中，光刻胶被用于制作芯片的图形化图案。光刻胶的主要成分是光敏剂和聚合物基质。光刻胶的制作过程包括混合、涂布、预烘、曝光、显影、后烘等步骤。下面来详细介绍下光刻胶的制造流程，光刻胶制备方法。

作者：转载 2024-04-26

光刻胶的种类有很多，按照光源波长的从大到小，可分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV等主要品类。KrF光刻胶和arf光刻胶是什么？krf光刻胶和arf光刻胶有什么区别？krf光刻胶和arf光刻胶最大区别是光刻胶的光源波长不同，krf波长为248nm，arf波长为193nm。

作者：转载 2024-01-22

光刻胶在半导体领域应用广泛，是半导体产业生产最关键的材料之一。光刻胶是光刻过程最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响，所以在保存光刻胶时要特别注意避光、防潮、低温。下面来了解下光刻胶使用和储存注意事项。

作者：转载 2023-04-12

光刻胶和光刻机仅一字之差，它们之间有什么区别呢？简单来说，光刻胶是一种材料，光刻机是一种机器。在光刻工艺中，需要通过光刻胶把电路印制在基板上，然后在光刻机上进行下一步。光刻胶和光刻机有什么关系？光刻机需要在光刻胶的基础上才开始画图作业。

作者：转载 2023-03-17

光刻胶是光刻工艺的核心材料，对中国半导体制造至关重要，是芯片生产过程中不可缺少的东西。通过光刻胶的涂布、曝光、显影等步骤，可以在芯片的表面上形成精细的结构，包括导线、晶体管等。光刻胶在芯片制造中有广泛的应用，主要包括芯片图案形成、芯片表面保护、芯片表面修饰。

作者：转载 2022-05-27

光刻胶是一种感光材料，可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将掩膜版图形转移至衬底上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶作为芯片制造中的一种重要材料，具有精度高、适用范围广、加工速度快的优点，但也具有成本较高、对环境有一定污染、对人体有一定危害的缺点。下面来了解下光刻胶的危害及防护。

作者：转载 2022-04-07

光刻胶又称光致抗蚀剂，在光刻工艺中，用作防腐蚀涂层材料。目前光刻胶广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作，是电子制造领域关键材料。光刻胶由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成，其原理包括光敏性原理、光学成像原理。

作者：转载 2021-08-05

euv光刻胶是什么？euv光刻胶也就是极紫外光刻胶，其波长为13.5纳米，几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收。EUV光刻胶用于晶圆厂的芯片生产，实现精确图案化，但euv光刻胶会出现随机效应，影响芯片的性能，甚至导致设备出现故障。

作者：转载 2020-10-15

光刻胶是一种光照后特性会发生改变的高分子化合物，主要用于半导体制造中的图形转移过程。光刻胶是泛半导体产业核心材料，是半导体材料皇冠上的明珠，对于现代电子行业的发展具有重要的意义。下面来了解下光刻胶和半导体的关系。

作者：转载 2020-09-26

光刻胶是半导体核心材料，是集成电路制造的重要材料。光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类。按照显影效果不同，光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。按照下游应用领域不同，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶。下面来了解下光刻胶种类和应用领域。

作者：转载 2020-09-23